解决方案
SOLUTION
钢铁/金属
HPSE快速溶剂萃取-SPE净化-LC/MS/MS测定食品接触材料中全氟化合物
样品：其他
检测项：含量分析
全氟和多氟烷基物质（PFAS）是指至少含有一个全氟化碳原子的有机化合物（即至少含有一个-CF2-或-CF3-脂肪链结构单元）。PFAS可赋予产品防油、防水、防污和防泥污、耐化学品性和耐高温性、降低表面摩擦、获得表面活性，因此它被大量应用于食品接触材料领域，例如不粘锅、纸制品等防水防油涂层。 随着科学技术的进步，发现PFAS尤其是全氟辛烷磺酸（PFOS）和全氟辛酸（PFOA）广泛存在于环境以及生物体中，包括人体的血清、母乳、肝组织中，相关的实验表明，全氟化合物对生物体具有肝脏毒性、遗传毒性、免疫毒性以及致癌性，而膳食摄入是人体全氟化合物暴露的主要途径，因此，食品接触材料中的PFOS和PFOA所带来的食品安全日益受到重视。 本文参考《GB 31604.35-2020食品接触材料及制品 全氟辛烷磺酸 （PFOS）和全氟辛酸（PFOA）的测定》提供的方法，使用HPSE Ultra快速溶剂萃取仪和SPE-1000全自动固相萃取系统，对食品接触材料中的PFOS和PFOA萃取和净化，并用液相色谱分离，电喷雾离子源（ESI）电离，多反应监测模式（MRM）检测。方法中测试的PFOS和PFOA的标准曲线线性相关系数R分别为0.9998和0.9995，加标回收率分别为86.3%和90.7%，RSD分别为6.5%和4.2%，满足标准要求。 关键词 HPSE Ultra SPE-1000 食品接触材料 全氟辛烷磺酸和全氟辛酸 GB31604.35-2020
莱伯泰科：膜去溶-ICP—MS测定高纯CeO2中14种痕量稀土杂质分析方法研究
样品：其他
检测项：含量分析
摘要：研究了不经基体分离，膜去溶一ICP MS法直接测定高纯CeO2中14种痕量稀土杂质的分析方法，讨论了ce基体产生的多原子离子对被测元素的质谱干扰，并且对影响多原子离子产率的因素进行了分析，同时建立了Pr，Gd，rrb和Yb数学校正方程。通过使用膜去溶雾化器和优化ICP．MS参数，消除了Cel ，CeO2 和CeO2H 产生的质谱干扰，将CeO／Ce产率降为0．008％ ，同时结合数学校正方程彻底消除了CeO ，CeOH 和CeOH2 的质谱干扰。Pr，Gd，，rb和Yb的方法测定下限分别为0．08，0．1，0．15和0．008 g·g～ ，l4种稀土杂质方法测定下限和为0．75 g·g一。99．999％高纯CeO2实际样品测定加标回收率为96％ ～103％ ，RSD为1．2％ ～4．3％ 。 关键词：高纯CeO ；膜去溶；数学校正；ICP．MS；多原子离子干扰；稀土
莱伯泰科：离子色谱-膜去溶-ICP—MS法测定高纯钨粉中痕量金属杂质
样品：钨
检测项：含量分析
摘要：灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用 02溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱，经水淋洗后，用HN03洗脱，洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B，V，Sb外，其它杂质元素如Mg，Al，Ti，Cr，Be，Fe，Mn，c0，Ni，cu，zn，Ga，Sr，Cd，Ba等的回收率均在90％ 一107％之间，检出限在0．0ol～0．5 gg／g之间。 关键词：痕量元素；高纯钨粉；离子色谱；阳离子交换柱；膜去溶装置；电感耦合等离子体质谱
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